“西安交大",是中華人民共和國教育部直屬的綜合性研究型全國重點大學
本次實驗室采購的是化學研磨拋光機
適用於(yu) CMP平坦化和平滑化工藝技術, 整機研磨部分采用防腐材料,耐化學腐蝕,配置自動滴料器和精密磨拋控製儀(yi) ,全自動觸摸屏麵板,從(cong) 加工性能和速度上同時滿足晶圓等麵型加工的需求。
1、超平不鏽鋼拋光盤(平麵度為(wei) 每25mm×25mm小於(yu) 0.0025mm)。
2、超精旋轉軸(托盤端跳小於(yu) 0.01mm)。
3、設有兩(liang) 個(ge) 加工工位,可分別進行控製。
4、配有全自動控製觸摸屏麵板,可設置主軸轉速、擺臂速度、磨拋時間。
5、配置自動滴料器,流量速率可視化調整,自動研磨和拋光。
6、配置GPC-100A精密磨拋控製儀(yi) ,可調節壓力,修整麵型,使磨拋更加方便快捷。
7、研磨部分采用防腐材料,耐化學腐蝕。